中国团队开发新的5 nm超高精度激光光刻处理方法

一个中国团队最近在《纳米快报》上发表了一篇研究论文，描述了一种新型的5 nm超高精度激光光刻处理方法。

这项研究是由中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所的研究员张紫阳与国家纳米中心的研究员刘谦合作进行的。

该团队设计并开发了一种新的三层堆叠薄膜结构。对于无机钛膜光刻胶，他们采用了双激光束交叉堆叠技术。通过精确控制能量密度和步长，它们突破了1/55衍射极限，达到了5 nm的最小特征线宽。

研究团队使用这种超分辨率激光直接写入技术来实现纳米狭缝电极阵列结构的大规模制造。

值得一提的是，研究团队已经开发出一种完全智能化的激光直写设备，该设备利用了激光和材料的非线性特性。这与缩短激光波长或增加数值孔径的传统技术途径不同。

这打破了传统激光直接写入技术中受体材料是有机光刻胶的限制。它可以使用多种接收器材料，大大扩展了激光直写场景的应用。